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1 化學濾網適於高階半導體制程 于 周四 12月 03, 2015 8:21 pm

Entegris Inc。無塵室設備宣化學濾網布推出空氣分子污染(AMC)化學濾網 VaporSorb 系列的擴充產品。Entegris為首創的 VaporSorb TRK 化學濾網新增在黃光制程中脫除弱酸,以涵  蓋四種主要空氣空調規劃設計分子污染類型,適用於半導體制造關鍵步驟的無塵室環境和制程生產機台。    VaporSorb 化學濾網的設計已能以單一過濾器捕捉空氣有機物、鹼和強酸。新型 VaporSorb TRK 已添加特殊材質,使其成為第一個不僅能捕捉前三種核心污染物類  別,還能捕捉第四類別的化學濾網,也就是定義為弱酸的類別。    針對光微影塗布/曝光機追蹤設計新型化學濾網,首創「四合一」化學濾網解決方案設立在過去的「三合一」技術上,避免了多重化學濾網的處理。此外,本化學濾網  能保持 VaporSorb 的使用壽命,降低生產機台的停機時間和持有成本。    Entegris AMC不織布濾網過濾服務部資深產品行銷經理 Joe W袋型濾網ildgoose 表示:「目前的黃光制程良率問題可望減輕;解決問題要從處理一個必須處理的污染物類別開始,也就  是弱酸。 VaporSorb TRK 不僅是能處理三種常見主要問題的單一解決方案,還能處理最新關於弱酸除臭抗菌濾網性空氣污染物的問題。」     博主好站推薦:[marquee scrollamount="1" width="350" height="15]
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