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1 鋁及鋁合金陽極氧化工藝 于 周二 12月 02, 2014 11:07 pm

普通硫硬陽處理酸陽極氧化可獲得厚度為5~20μm、吸附性較好的膜層,該法的槽電壓低、維護方便,節約能源、成本較低,允許雜質含量範圍較寬。它主要用於鋁件的防護和裝飾,但不適用於孔大的鑄鋁件、點焊和鉚接組合件。  常用的有直流電解和交流電解兩種工藝,直流法采用硫酸100~200gL,陽極電流密度為0。8~1。5A/dm2,溫度為l5~25℃,電壓l0~25V,時間20~40min;交流法采用硫酸l0%~20%,陽極電流密度為1~3A/dm2,溫度為20℃,電壓20~陽極處理50V,時間20~40min。  (2)硬質陽極氧化  硬質陽極氧化又稱厚層陽極氧化,氧化膜的厚度可達25電鍍0μm。膜層具有硬度大、耐磨、絕緣、耐熱、耐蝕等特點。表7—2列出硬質氧化膜與普通氧化膜特征比較。獲得硬質陽極氧化膜可采用的電解液很多,  常用的有硫酸、草酸、丙二酸、蘋果酸、磺基水楊酸等。常用直流電源,還可采用交流、直流疊加及各種脈衝電流。為了得到硬度高、膜層厚的氧化膜,在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌及較低的溫度,一般保持在一5~+10℃範圍內。表7—3列出硬質陽極氧化工藝規範。  對於硫酸硬質氧化工藝來說,硫酸的濃度對氧化過程影響極大,當鋁表面處理硫酸的濃度較高時,氧化膜的生長速度慢,氧化膜硬度有所降低,孔隙度大。但濃度較低時,槽液壽命短,零件易被燒壞。為了增加氧化膜的厚度,添加一定量的草酸效果較好,且溶液中不應有氯離子和鎢鹽、鎂鹽。  溫度和電流密度是影響氧化膜質量的重要因素。溫度上升,膜的厚度下降,溫度還應根據不同的合金來定。若電流密度太小,氧化膜生成速度緩慢,但過高時溫度升高快,使零件產生“腐蝕”而“燒損”。硬質氧化的始末電壓與時間對氧化膜質量也有很大影響,應根據鋁合金成分來確定。對於含銅小於2。5%的鋁合金,開始電壓為5~7V,不應大於10V;對於含銅大於2。5%又含錳的合金,開始電壓為20~24V,終了電壓根據所需電流密度而定。(3)鉻酸陽極氧化  鉻酸陽極氧化膜層較薄,大致在2~5μm,膜層較軟有彈性,抗蝕性不如硫酸陽極氧化膜,不透明,顏色由灰白至深灰色,不易著色。孔隙少,不用封閉處理。此種氧化膜適用於精密零件,很少作裝飾用。膜層與有機材料結合力好,可作為良好的塗裝底層,並廣泛用於橡膠粘接件與蜂窩結構的面板,多用於航空與航天工業。電解液組成及工藝條件為鉻酐50~100gL,溫度35℃±2℃,槽電壓0~50V,時間30~60min,陽極電流密度(平均)0。3~0。5A/m2,對於含銅高的鋁合金,溫度可降至25~30℃,電壓0~40V。      氬焊機,slide bearing,Plastic bearing,powder metal,sintered metal]

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